ネオンアーティストのWakuが東京・原宿で個展　有名ロゴを再構築する新たな表現

　ネオンの光を使った作品を発表するアーティストのワク（Waku）は、東京・原宿の「ギャラリー コモン（Gallery COMMON）」で個展“アフターイメージ（Afterimage）”を10月15〜11月13日に開催する。

　同氏はこれまでネオンの光そのものに焦点を当てるため、手描きの線をベースにした抽象的な作品を制作してきた。同展では、企業ロゴといった消費社会的な記号をモチーフに採用。線の太さや角度、色など複数の要素で生活者に強いイメージを想起させるこれらのモチーフを“堅牢なサイン”と捉え、認識の鍵となる要素を誇張したり、転用したりした作品を並べる。

　ワクは1996年東京生まれ。仏教寺院の家に育ち、ロウソクの光が寺や本堂の仏像を照らす体験から、光と光が作り出す空間に対して興味を持つ。2017年にネオンサインの加工会社、島田ネオンで修行をスタート。18年に米ニューヨークに渡り、ネオン職人のデイヴィッド・アブロン（David Ablon）に師事する。帰国後、ネオンサインスタジオgokouを設立して企業向けの作品を手掛けるとともに、アーティストとしても精力的に活動している。

■“Afterimage”
日程：10月15日〜11月13日
場所：ギャラリー コモン
住所：東京都渋谷区神宮前5-39-6 地下1階
時間：12:00〜19:00
休日：月、火曜